SUPER-COAT-series

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高速スパッタリング装置


SUPER-COAT-series
N型コンパクトハンディー装置
S型ハイグレード実験・生産装置


SUPER-COAT N250 / N400 / S600 / S600C


特 長


N型の特徴
▶1.スーパーコンパクト、スーパーエコノミック
▶2.蒸着装置兼用
▶3.ハンディな操作性
▶4.安定した放電(異常放電防止回路付)
▶5.豊富なオプション(仕様表参照)
S型の特徴
▶1.精密実験、中規模生産装置兼用
▶2.手軽に多層膜生成(3ターゲット)
▶3.クリーンバキューム(ターボ分子ポンプ又はクライオポンプ)
▶4.高真空/クリーンンバキュームのための回転導入部ガード排気
▶5.「DRY-CARRY SYSTEM」装置(S600C)(実用新案出願中)
▶6.チャンバーベーキングによる高真空/クリーンバキューム
▶7.豊富なオプション
スパッタ専用膜厚モニタによる膜厚制御
アルファモス薄膜生成装置
その他(仕様表参照)

SUPER-COAT-series

性能・仕様

 

N型式 SUPER-COAT N250 SUPER-COAT N400
ターゲット 高速マグネトロンカソード(磁性体用はオプション)
サイズ Φ80
個  数 1個 3個
基盤ホルダー Φ100 Φ320
回  転 0~50rpm
冷  却 水 冷
加  熱 最高350℃ 常用300℃
逆スパッタ
バイアス電圧
DC電源 1.2kW 2kW
RF電源 300W★ 1kW★
到達圧力
(無負荷時)
7×10⁻⁴Pa以下 10⁻⁵Pa台
排気時間 7×10⁻³Paまで約10分 7×10⁻⁴Paまで約10分
排気系 2.5B DP.手動 6B DP.手動
オプション ターボ排気系★ 自動排気系★
クライオ★
ターボ分子ポンプ排気系★
ガス導入系 ニードル弁、ストップ弁一式 Arガス用マスフローコントローラー、
ストップ弁一式
N2ガス用ストップ弁一式
電 気 Φ1 AC100V
3.5kVA 一式
Φ3 AC200V
15kVA 一式
冷却水
(25℃以下0.2 ~0.5MPa)
5l/min 12l/min
空 圧
(0.3 ~0.5MPa)
5l/min
その他 蒸着用電極2対
蒸着用電源20V・30A
蒸着用ジンバル装置
蒸着用電極2対
蒸着用電源30V・100A
★膜圧モニター(スパッタ専用)
★シャッタ自動制御
★逆スパッタ機構
★バイアス電位印加
★自動圧力コントロール
(マスフローコントローラー、サーボ機構真空弁)
★アモルファス薄膜生成用機構
★超伝導膜生成用機構
S型式 SUPER-COAT S600 SUPER-COAT S600C
ターゲット 高速マグネトロンカソード(磁性体用はオプション)
サイズ Φ127
個 数 3個
基盤ホルダー Φ320
回 転 0~50rpm
冷 却 水 冷
加 熱 最高350℃ 常用300℃
逆スパッタ
バイアス電圧
DC電源 2kW
RF電源 1kW★
到達圧力
(無負荷時)
1.5×10⁻⁵Pa
排気時間 7×10⁻⁵Paまで約30分
排気系 8B クライオポンプ手動
オプション 自動排気系★ クライオ★ ターボ分子ポンプ排気系★
ガス導入系 Arガス用マスフローコントローラー、
ストップ弁一式
N2ガス用ストップ弁一式
電 気 Φ3 AC200V 15kVA 一式
冷却水
(25℃以下0.2~0.5MPa)
20l/min
空 圧
(0.3~0.5MPa)
5l/min
その他 真空層のベーキング機構 ターボ分子ポンプ付
基板挿入室自動搬送機構
「DRY-CARRY SYSTEM」
★膜圧モニター(スパッタ専用)
★シャッタ自動制御
★逆スパッタ機構
★バイアス電位印加
★自動圧力コントロール
(マスフローコントローラー、サーボ機構真空弁)
★アモルファス薄膜生成用機構
★超伝導膜生成用機構

 

営業品目

真空コンポーネント
ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、真空バルブ、真空計、真空部品


真空装置
●冶金装置
焼結、ホットプレス、ロウ付、熔解鋳造、焼鈍、焼入、熱処理、
アーク・プラズマ・EB応用炉、結晶製造精製


●真空コンポーネント
蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、PVD、CVD


●真空コンポーネント
排気セット、材料試験、特注装置