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高速スパッタリング装置
SUPER-COAT-series
N型コンパクトハンディー装置
S型ハイグレード実験・生産装置
SUPER-COAT N250 / N400 / S600 / S600C
特 長
N型の特徴 |
| ▶1.スーパーコンパクト、スーパーエコノミック |
| ▶2.蒸着装置兼用 |
| ▶3.ハンディな操作性 |
| ▶4.安定した放電（異常放電防止回路付） |
| ▶5.豊富なオプション（仕様表参照） |
S型の特徴 |
| ▶1.精密実験、中規模生産装置兼用 |
| ▶2.手軽に多層膜生成(3ターゲット) |
| ▶3.クリーンバキューム(ターボ分子ポンプ又はクライオポンプ) |
| ▶4.高真空/クリーンンバキュームのための回転導入部ガード排気 |
| ▶5.「DRY-CARRY SYSTEM」装置(S600C)(実用新案出願中) |
| ▶6.チャンバーベーキングによる高真空/クリーンバキューム |
| ▶7.豊富なオプション スパッタ専用膜厚モニタによる膜厚制御 アルファモス薄膜生成装置 その他（仕様表参照） |
性能・仕様
| N型式 | SUPER-COAT N250 | SUPER-COAT N400 |
| ターゲット | 高速マグネトロンカソード(磁性体用はオプション) | |
| サイズ | Φ80 | |
| 個 数 | 1個 | 3個 |
| 基盤ホルダー | Φ100 | Φ320 |
| 回 転 | ★ | 0~50rpm |
| 冷 却 | ★ | 水 冷 |
| 加 熱 | 最高350℃ 常用300℃ | |
| 逆スパッタ | ★ | |
| バイアス電圧 | ★ | |
| DC電源 | 1.2kW | 2kW |
| RF電源 | 300W★ | 1kW★ |
| 到達圧力 (無負荷時) | 7×10⁻⁴Pa以下 | 10⁻⁵Pa台 |
| 排気時間 | 7×10⁻³Paまで約10分 | 7×10⁻⁴Paまで約10分 |
| 排気系 | 2.5B DP.手動 | 6B DP.手動 |
| オプション | ターボ排気系★ | 自動排気系★ クライオ★ ターボ分子ポンプ排気系★ |
| ガス導入系 | ニードル弁、ストップ弁一式 | Arガス用マスフローコントローラー、 ストップ弁一式 N２ガス用ストップ弁一式 |
| 電 気 | Φ1 AC100V 3.5kVA 一式 | Φ3 AC200V 15kVA 一式 |
| 冷却水 (25℃以下0.2 ~0.5MPa) | 5l/min | 12l/min |
| 空 圧 (0.3 ~0.5MPa) | ― | 5l/min |
| その他 | 蒸着用電極2対 蒸着用電源20V･30A 蒸着用ジンバル装置 | 蒸着用電極2対 蒸着用電源30V･100A |
| ★膜圧モニター(スパッタ専用) ★シャッタ自動制御 ★逆スパッタ機構 ★バイアス電位印加 ★自動圧力コントロール (マスフローコントローラー、サーボ機構真空弁) ★アモルファス薄膜生成用機構 ★超伝導膜生成用機構 | ||
| S型式 | SUPER-COAT S600 | SUPER-COAT S600C |
| ターゲット | 高速マグネトロンカソード(磁性体用はオプション) | |
| サイズ | Φ127 | |
| 個 数 | 3個 | |
| 基盤ホルダー | Φ320 | |
| 回 転 | 0~50rpm | |
| 冷 却 | 水 冷 | |
| 加 熱 | 最高350℃ 常用300℃ | |
| 逆スパッタ | ★ | |
| バイアス電圧 | ★ | |
| DC電源 | 2kW | |
| RF電源 | 1kW★ | |
| 到達圧力 (無負荷時) | 1.5×10⁻⁵Pa | |
| 排気時間 | 7×10⁻⁵Paまで約30分 | |
| 排気系 | 8B クライオポンプ手動 | |
| オプション | 自動排気系★ クライオ★ ターボ分子ポンプ排気系★ | |
| ガス導入系 | Arガス用マスフローコントローラー、 ストップ弁一式 N２ガス用ストップ弁一式 | |
| 電 気 | Φ3 AC200V 15kVA 一式 | |
| 冷却水 (25℃以下0.2~0.5MPa) | 20l/min | |
| 空 圧 (0.3~0.5MPa) | 5l/min | |
| その他 | 真空層のベーキング機構 | ターボ分子ポンプ付 基板挿入室自動搬送機構 ｢DRY-CARRY SYSTEM｣ |
| ★膜圧モニター(スパッタ専用) ★シャッタ自動制御 ★逆スパッタ機構 ★バイアス電位印加 ★自動圧力コントロール (マスフローコントローラー、サーボ機構真空弁) ★アモルファス薄膜生成用機構 ★超伝導膜生成用機構 | ||
営業品目
真空コンポーネント
▶ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、真空バルブ、真空計、真空部品
▶真空装置
●冶金装置
焼結、ホットプレス、ロウ付、熔解鋳造、焼鈍、焼入、熱処理、
アーク・プラズマ・EB応用炉、結晶製造精製
●真空コンポーネント
蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、PVD、CVD
●真空コンポーネント
排気セット、材料試験、特注装置